濺射因其自身優點，已經在電子行業、太陽能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的應用。隨著現代科技微型化、集成化、數字化、智能化的快速發展，鉬靶材的用量將持續增長，對其質量要求也必將越來越高。所以有必要對鉬靶材的利用率進行提高，下面小編就來介紹幾點提高濺射鉬靶材利用率的措施。

　　如何提高濺射鉬靶材利用率

　　1、背面加電磁線圈

　　平面鉬靶

　　想提高濺射鉬靶材的利用率，可以在平面的磁控濺射鉬靶材的背面加上一圈電磁線圈，通過電磁線圈的電流來改變鉬靶材表面的磁場大小，以提高鉬靶材的利用率。除提高利用率外，還能提高濺射效率。

　　2、采用管狀旋轉靶材

　　旋轉鉬靶材

　　相比平面靶材，采用管狀旋轉靶材結構的設計顯示出它的實質性優勢，一般平面靶材的利用率低，僅為僅為30%~50%，所以現在很多廠家都在應用旋轉空心圓管磁控濺射靶，其優點是靶材可繞固定的條狀磁鐵組件旋轉，靶面360°可被均勻刻蝕，其利用率可從平面靶材的30% ~ 50%增加到80%以上。此外，旋轉靶的壽命要比平面靶材高5倍。由于旋轉靶材在濺射過程中不停的旋轉，在它的表面不會產生重沉積現象。

　　3、更換新型濺射設備

　　提高靶材利用率的關鍵在于實現濺射設備的更新換代。鉬濺射靶材在濺射過程中靶材原子被氫離子撞擊出來后，約由六分之一的濺射原子會淀積到真空室內壁或支架上，增加清潔真空設備的費用及停機時間。所以設備的更新也有助于提高濺射鉬靶材的利用率。

　　上述就是對如何提高濺射鉬靶材利用率的回答，要提高鉬濺射靶材的利用率和濺射效率，一種是背面加電磁線圈，另一種是改平面靶材為管狀旋轉靶材，還有就是通過更新換代濺射設備和增加靶材規格。隨著電子行業及太陽能電池的發展，鉬靶材作為高附加值電子材料的用量在逐年增加，所以提高提高濺射鉬靶材利用率是很有必要的一項措施。我們可提供高純度的鉬靶材，如果您有需要，歡迎在我們網站留言或來電詳詢。